广州市协宇新材料科技有限公司

在涂料和油墨的生产与应用中，消光粉是实现哑光、缎光等低光泽效果的关键助剂。很多客户常常会问：“消光粉的小添加量是多少？”协宇科技在此科普：消光粉并不存在一个普适的、固定的“小添加量”标准。这个数值是一个动态变量，受制于多种因素的综合影响。
为什么没有固定“小添加量”？
1.目标光泽度要求：这是的因素。需要达到半光（60°光泽20-40）、哑光（<10）还是全哑光（接近0）？目标光泽越低，所需消光粉的量通常越大。
2.树脂体系：不同树脂（如聚氨酯、丙烯酸、醇酸、环氧、硝基漆等）的成膜特性和自身光泽潜力差异巨大。光泽潜力高的树脂（如某些高光丙烯酸）需要更多消光粉才能达到相同哑度；而本身光泽较低的树脂（如某些醇酸）可能只需少量消光粉。
3.溶剂体系与干燥速度：溶剂挥发速度影响涂膜表干时间和消光粉粒子的迁移、排列与突出。快干体系可能不利于消光粉均匀排列和突出表面，有时需要增加用量或调整配方（如添加蜡助剂）来达到效果。
4.消光粉本身特性：
*粒径与粒径分布：粒径越大、分布越窄，通常消光效率越高（单位添加量下光泽降低更多）。消光粉可能用更少的量达到目标。
*孔隙率/结构：多孔、结构化的消光粉（如气相二氧化硅）具有更高的比表面积和光散射能力，消光效率通常优于实心颗粒（如某些合成蜡）。
*表面处理：有机改性（疏水或亲水处理）影响其在体系中的分散性、相容性和抗沉降性，也间接影响消光效率的发挥。
5.涂膜厚度：厚涂膜需要更多的消光粒子来散射光线，达到与薄涂膜相同的光泽水平，通常需要更高的添加量。
6.施工工艺：喷涂、辊涂、淋涂等不同工艺产生的剪切力不同，影响消光粉在湿膜中的分散和排列状态，进而影响终消光效果。
7.配方中的其他组分：流平剂、分散剂、增稠剂、蜡、填料等都可能影响消光粉的分散稳定性、迁移和终在漆膜表面的分布状态。
实际应用中的经验参考范围
虽然小值不固定，但根据大量实践经验，消光粉在涂料油墨中的添加量通常有一个较宽的范围：
*低光泽需求（如半光）：可能在总配方量的0.5%-3%左右。
*中高哑光需求：通常在1%-5%之间。
*深度全哑光需求：可能达到3%-8%甚至更高（尤其对于高光树脂体系或需要极低光泽时）。
请注意：
*这只是一个非常粗略的经验范围，能作为标准。
*添加量并非越多越好！过量添加会导致：
*漆膜透明度下降（发白、发雾）。
*手感变粗糙。
*力学性能下降（如抗划伤性、柔韧性）。
*粘度显著升高，影响施工性。
*成本增加。

1.高纯度原料与合成：
*起点纯净：协宇选用高纯度的硅酸钠（水玻璃）和酸（如硫酸、盐酸）作为主要原料，从减少金属离子等杂质的引入。杂质会影响终产品的透明度、化学稳定性和批次一致性。
*可控沉淀：在合成初级二氧化硅颗粒（溶胶）的过程中，严格控制反应条件（如温度、浓度、pH值、加料速度、搅拌强度）。这确保了生成的一次粒径高度均一。均一的粒径是后续形成稳定消光网络的基础。
2.精密控制的聚集工艺：
*形成结构：初级溶胶粒子并非直接干燥，而是通过特定的聚集工艺（如喷雾干燥、特殊絮凝）形成疏松、多孔的三维网状聚集体。这是二氧化硅消光剂的结构。
*结构稳定性：协宇的工艺关键在于控制聚集的条件（如干燥温度、压力、时间、分散介质），使得形成的聚集体具有理想的粒径分布（通常集中在3-15微米）、高孔隙率和足够的机械强度。这种结构在涂料体系中既能有效散射光线（消光），又不易在储存或施工过程中被破坏（如过度剪切破碎），保证了消光效率的稳定性和重现性。
3.的表面处理：
*解决兼容性问题：未经处理的二氧化硅表面富含硅羟基（Si-OH），是亲水性的，难以在有机涂料体系中良好分散，容易团聚结块，导致消光不均、光泽波动、甚至影响漆膜性能。
*有机改性：协宇的关键工艺之一是对聚集后的二氧化硅进行有机（如六二硅氮烷、硅氧烷）表面处理。分子的烷氧基与硅羟基反应，将疏水的有机基团（如）接枝到颗粒表面。
*：
*提高疏水性：处理后的颗粒表面能降低，与树脂体系的相容性大大提高。
*改善分散性：颗粒更容易在涂料中被润湿和分散开，形成稳定、均一的悬浮体系，不易沉降或絮凝。
*减少相互作用：降低了颗粒之间以及颗粒与树脂之间的强相互作用力，防止储存过程中形成硬沉淀或胶化。
*优化漆膜分布：处理后的颗粒能更均匀地迁移并定位于漆膜表面，形成更一致的微粗糙结构，这是获得稳定消光效果的关键。
4.严格的质量控制与批次管理：
*整个生产工艺（合成、聚集、表面处理、分级、包装）都在高度自动化和受控的环境中进行。
*对关键工艺参数（粒径分布、孔隙率、吸油值、pH值、水分、表面处理度）进行严格的在线和离线检测。
*确保不同批次产品之间的性能高度一致，用户使用时无需频繁调整配方。
总结来说，协宇二氧化硅消光剂效果稳定的在于：
*均一的基础粒子为稳定性打下根基。
*精心设计的、高孔隙且强韧的三维网状聚集体结构提供了且不易被破坏的消光单元。
*关键的有机表面处理极大地改善了在涂料体系中的分散稳定性、相容性和漆膜表面分布均匀性。
*贯穿全程的精密工艺控制和严格质量管理保证了产品性能的批次间高度一致性。
正是这些环环相扣的工艺步骤和对细节的把控，使得协宇的二氧化硅消光剂能够在各种涂料体系中提供持久、可靠且可预测的消光效果。

协宇自主研发的OK412是国内首台获批上市的全数字PET/CT设备，标志着国产分子影像设备实现了重大技术突破，其创新点在于全数字化探测器架构和系统设计。
1.全数字PET探测器：成像的基石
*SiPM与数字化深度集成：OK412摒弃了传统模拟光电倍增管（PMT），采用新一代硅光电倍增管（SiPM）作为光信号转换器件。其关键创新在于将数字化处理模块（ASIC）与SiPM紧密集成，形成“探测器单元”。这种设计使得每个探测单元输出的直接就是的数字信号（包括光子到达时间、能量、位置信息），而非需要后续处理的模拟信号。
*消除信号传输失真：传统模拟信号在长距离传输中易受干扰、衰减和畸变。OK412的“就地数字化”技术从根本上解决了这个问题，保留了原始光子信息的完整性和准确性，为后续高精度重建提供了坚实基础。
*高集成度与稳定性：这种模块化、数字化的探测器设计大大提升了系统的集成度、稳定性和可维护性。
2.的时间分辨率与TOF技术：
*OK412得益于全数字探测器带来的信号保真度和高速处理能力，实现了优异的时间分辨率（通常达到300皮秒左右甚至更高）。
*高精度飞行时间（TOF）技术：超高的时间分辨率使得OK412能够更地定位正电子湮灭事件发生的位置。TOF技术显著提升了图像的信噪比（SNR）和对比度，在相同扫描条件下，可获得更清晰、更易读的图像，或者在保证图像质量的前提下显著降低示踪剂量或缩短扫描时间，提升患者舒适度和检查效率。
3.优化的系统设计与性能：
*共机架设计：通常采用CT与PET同轴、共旋转中心的机架设计，确保PET和CT图像的融合配准。
*低剂量与高灵敏度：结合高灵敏度SiPM探测器和TOF技术，OK412能够在保证甚至提升图像质量的同时，有效降低性示踪剂的量，减少患者辐射负担。
*高速采集与重建：全数字化的数据流为高速数据采集和重建算法（如基于深度学习的迭代重建）提供了硬件基础，缩短了检查时间，提高了临床工作流效率。
总结：
协宇OK412的创新在于其“全数字”基因——从探测器实现信号数字化，结合SiPM和高精度TOF技术，构建了高保真、高灵敏、高稳定性的PET成像系统。这不仅代表了国产PET/CT技术达到了水平，更在实际应用中为临床带来了更的病灶探测能力、更优的图像质量、更低的辐射剂量和更高的工作效率，为、神经系统疾病、疾病等的早期诊断提供了强大的国产化装备支撑。